标签：消息指三星电子 2nm 工艺 EUV 曝光层数增加 30% 以上，未来 SF1.4 节点有望超 30 层

本站 7 月 23 日消息，韩媒 the elec 本月 17 日报道称，三星电子预计于明年推出的 2nm 先进制程将较现有 3nm 工艺增加 30% 以上的 euv 曝光层数，达“20~30 的中后半段”。韩媒在报道中提到，根据产品性质的...